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第19章 用光刻还是冰刻（第1页）

好嘛，这倒是大意了。

一时间，会议室内的众人有点尴尬。不过不会可以学嘛，而且你既然作为曾经的二把手，以后要学的东西会越来越多。

最后苏云欣顺利拿到了所有资料，当晚就开始着手研究。

苏云欣喝了一口红糖水，托着小脑袋，考虑着到底是要光刻还是冰刻。

光刻机实际上并不是用激光来雕刻芯片，名字里有个“刻”字，但实际工作流程并不涉及“刻”的过程。

芯片生产用光刻机的工作更像是留影机，把掩膜板上的图案照射到涂在晶圆上的光刻胶上，让胶片曝光。

光刻机只是完成曝光，不进行光刻。

之后交接给蚀刻机，蚀刻机才是要完成刻的工作。使用极紫外光等方式雕刻电子线路。

而在其中光刻胶至关重要。

传统光刻机涂抹在晶圆上的这一过程中极易受到厚度、均匀程度等影响，从而影响良品率。

而冰刻在真空环境中，由于水自身的特性，它可以完美地包裹住晶圆，从而避免传统光刻胶可能导致的种种问题。

但是冰刻机的雕刻工艺需要非常细致。

“如果可以用高强度离子束替代电子束。冰刻会不会更好呢？”苏云欣有节奏的转着笔。

哎，有时候方案太多也是一种烦恼，都要选择困难症了。

“系统，你有什么建议吗？”

[#-_-都可以啦，就这么个光刻机，有啥纠结的。]

[倒是有个捷径，离子束直接混合灵子，离子速度将再次加速，离子束变的越发尖锐。不过，我怕你把握不好。]

“诶？你这样不相当于微型激光武器了吗？”

[是啊，如果是1pm（皮米），只有这样才理想，你之前都是1nm后直接跳硅基芯片了。]